基于聚焦离子束的氮化硅纳米孔的制备和表征

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基于聚焦离子束的氮化硅纳米孔的制备和表征
摘要:纳米孔是目前单分子测序的一项重要技术。作者以氮化硅绝缘材料为基底,采用微加工
技术设计和制备了自支撑氮化硅悬空膜结构,然后利用聚焦离子束刻蚀悬空膜。通过优化聚焦
离子束的系统参数,得到一系列孔径和锥度可控的纳米孔。通过扫描电镜和电学信号显示,该
纳米孔具有很好的表面特性和伏安特性。当加入 DNA 分子时,电流瞬时下降,得到一系列明
显、稳定的阻塞信号。说明该方法制备的纳米孔稳定可靠,可以用于不同生物分子的检测和分
析。
关键词:氮化硅;聚焦离子束;纳米孔;阻塞电流
纳米孔作为一种新型的纳米探测器,是单分子检测的一项重要技术,其低成本、高通量的特性
成为 DNA 超快速测序实现的关键技术之一。1996 年,Kasianowicz 等人首次报道了 α-溶血素
α-HL)蛋白质纳米孔,并检测出 DNA RNA 分子过孔产生的阻塞电流。
此方法一经提出,就引起了广泛的关注,也是生物膜上各种通道转变为纳米孔的开端。不过,
由于生物纳米孔脆弱、不稳定、孔径无法随意控制,限制了它的广泛应用。随着微加工技术的
发展,固态纳米孔应运而生。2001 年,Li 等人首次利用自制的离子束反馈控制系统在 Si3N4
膜上刻蚀出纳米孔,用于 DNA 检测。随后,Dekker 小组利用 300kV 的高能聚焦电子束
focusionbeam,FIB)在 SiO2 薄膜上刻蚀出纳米孔。随着研究的日趋升温,更多制备固态纳米
孔的方法陆续出现,如应用聚焦电子束诱导刻蚀、低能电子束刻、激光束光刻、电化学腐蚀等
方法,在氮化硅、氧化硅或其它金属氧化物等薄膜介质上制备出稳定的纳米孔。为了得到更小
的孔,通过原子沉积、离子束沉积、高能电子束液化等进行缩孔的技术也得到发展,以满足纳
米孔的应用。
同时,制备纳米孔的材料也更加广泛,从氧化硅等金属氧化物,到塑料、玻璃、石墨烯等高分
子化合物,都成为固态纳米孔的加工材料。固态纳米孔具有稳定性好,尺寸可控,表面特性可
调等优势,已成为目前单分子检测领域的研究热点。
不过,固态纳米孔的制备工艺目前仍然比较复杂,成功和稳定性有提高,纳米孔的形貌
直接影响着纳米孔器灵敏度和可靠性。此,发展一种单、可靠的纳米孔制备工艺
是目前纳米孔器发展的关键。本以氮化硅绝缘材料为基底,采用微加工技术设计和制备了
自支撑的氮化硅悬空膜结构,然后,利用聚焦离子束(FIB )刻蚀悬空膜。
通过优化聚焦离子束的系统参数,得到一系列孔径和锥度可控的纳米孔。制备好的纳米孔
片钳检测装置中,显示出好的伏安特性。当加入 DNA 分子时,电流瞬时下降,得到一系
列明显、稳定的阻塞信号。这些表明,本采用的固态纳米孔的制备工艺是实可行的,
该方法制备的纳米孔可以用于不同生物分子的检测和分析,进其在基测序,生物传感等领
域的广泛应用。材料和方法材料采用 4晶圆310μm<100>光的单为基
后通过低压气相沉积分沉积 500nmSiO2 100nmSi3N4 薄膜。硫酸、过氧化
氢氟酸氧化乙醇丙酮试剂均为分析用溶液离子超纯水配置
Millipore,>18MΩ/cm)。Si3N4 膜悬空结构的制备以 4晶圆310μm<100>
为基底,通过湿氧化和低压气相沉积,分沉积 500nmSiO2 100nmSi3N4 的薄膜,
然后,腐蚀或刻蚀Si3N4 膜悬空结构。
掩模版图形的设计在腐蚀或刻蚀的过程中,利用统的光刻技术,在基均匀地甩上一
(也光刻),然后,通过掩模版在各种波长的光下光,将掩模版上的图形
光刻上。
膜的制备片清洗干净后,通过湿氧化的方法在硅片双面生长约 500nm SiO2
作为过渡层。然后,用化学气相沉积的方法Si3N4 膜沉积在SiO2 膜上。各膜的腐蚀
为了进一得到 Si3N4 膜的悬空结构,去除掉部Si SiO2 成的 Si3N4 悬空结构。膜
腐蚀加工过1 示。
A版图形的转:在已沉积了膜的 Si 的一面,利用甩胶机均匀地甩上一光刻
正胶),用紫外光进行光,使暴露在光下的光刻于 FIB 的纳米孔制备本采用 FEI 公司
摘要:

基于聚焦离子束的氮化硅纳米孔的制备和表征摘要:纳米孔是目前单分子测序的一项重要技术。作者以氮化硅绝缘材料为基底,采用微加工技术设计和制备了自支撑氮化硅悬空膜结构,然后利用聚焦离子束刻蚀悬空膜。通过优化聚焦离子束的系统参数,得到一系列孔径和锥度可控的纳米孔。通过扫描电镜和电学信号显示,该纳米孔具有很好的表面特性和伏安特性。当加入DNA分子时,电流瞬时下降,得到一系列明显、稳定的阻塞信号。说明该方法制备的纳米孔稳定可靠,可以用于不同生物分子的检测和分析。关键词:氮化硅;聚焦离子束;纳米孔;阻塞电流纳米孔作为一种新型的纳米探测器,是单分子检测的一项重要技术,其低成本、高通量的特性成为DNA超快速测序...

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